Китайская промышленность начала серийный выпуск оборудования для фотолитографии 7-нм техпроцесса
В Шанхае запущен массовый выпуск иммерсионных DUV-литографов, способных создавать чипы по 7-нм техпроцессу. Первые партии оборудования поступят на крупнейшие полупроводниковые предприятия КНР до конца 2026 года.












