Учёный из Окинавы предложил радикально упростить EUV‑литографию
Профессор Цумору Синтакэ из OIST разработал новую схему high‑NA EUV‑системы с линейной геометрией, где фотомаска, оптика и кремниевая пластина находятся на одной оси. Это может существенно снизить стоимость производства передовых микрочипов.
1 мин