Бум технологий искусственного интеллекта привел к беспрецедентному росту заказов на литографические сканеры ASML. Очередь на поставку оборудования растянулась до 2030 года, и даже планируемое расширение производственных мощностей не позволяет компании удовлетворить спрос в ближайшие годы.
Компания ASML совместно с Carl Zeiss начала подготовку к созданию литографического оборудования Hyper-NA EUV. Ожидается, что технология позволит уменьшить элементы чипов на треть, открывая путь к процессорам следующего десятилетия.
Китайские технологические компании сформировали значительный парк литографического оборудования ASML. Это позволяет стране поддерживать выпуск современных 7-нм процессоров и развивать ИИ-отрасль, несмотря на внешние ограничения на поставку наиболее совершенных систем.
Производитель литографического оборудования ASML объявил о полной загрузке мощностей до конца 2027 года. Высокий спрос на чипы для искусственного интеллекта привел к рекордному дефициту систем фотолитографии в глубоком ультрафиолете.
Ведущие игроки рынка микрочипов оказались в эпицентре конфликта из-за стоимости оборудования. Рост цен на литографические системы может отразиться на конечной стоимости электроники, вынуждая производителей искать компромиссы в условиях глобальной экономической нестабильности.
