Китайские инженеры совершили прорыв в скорости производства фотонных чипов
Исследователи из Китая представили технологию ионно-лучевой литографии, которая позволяет ускорить создание фотонных микросхем в сто раз. Это достижение открывает новые горизонты для развития высокопроизводительных вычислительных систем.
1 мин

