Китайские инженеры совершили прорыв в скорости производства фотонных чипов
Китайские исследователи увеличили скорость создания фотонных чипов в сто раз, используя метод ионно-лучевой литографии. Это открытие может радикально изменить архитектуру современных вычислительных систем и дата-центров в ближайшие годы.
👁 1